uv光刻工艺。
根据后世经验，euv光刻工艺投入正式使用最早最早要等到2019年，从这个角度来说，星空半导体有时间有可能追赶上去。
因为星空半导体背后有‘财大气粗’的博浪，博浪有温良这個对高新科技自主化有十分疯狂追求，不计成本投入的总经理。
毕竟……euv是个有充分理论验证支撑的应用科技攀爬。
没有从零开始一说。
要解决的问题是材料上的全新尝试、组件上的自主化、同种理论上的优化……反正，应用科技领域完全独立必不可能，专利的交叉问题多得吓死人。
为了应对无可避免的知识产权官司，林鸿早已牵头展开了博浪全球法务体系，投入甚大。.xxbiquge.
回头说euv这个东西，最早开展相关研究的时间可以追溯到80年代，是小日那边的ntt，之后是尼康和日立方面在91年展开研发。
而在更晚一些的97年，英特尔感觉到了挑战193nm光源的的巨大难度，决定合作愚公移山，于是说服了当局，以公司形式发起了euvllc这样一个合作组织。
由英特尔和美能源牵头，集合了摩托、amd、劳伦斯利弗莫尔、劳伦斯伯克利桑迪亚三个实验室，投资两亿美元集合几百位顶级科学家，从理论上验证euv可能存在的技术问题。
当时，英特尔力邀asml和尼康加入euvllc，但被当局阻扰，因为当局不乐意其它地区分享前沿科技。
最终结果是尼康……这个阿美小三的公司被排除在外，asml做了一堆贡献许诺后被允许加入，另一家例外非美公司是德公司英飞凌。
euvllc在97年到03年六年间发表了几百篇论文，验证了euv光刻机的可行性，然后解散。
单从这段上世纪末本世纪初的历史来看，在前沿科技领域进行海外收购……是多么多么不可能的事情！
这也是温良主导的博浪几乎
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