“水，而且是18兆欧的去离子纯水。”周硕用力的点了点头。
水，我们这个星球上面无数生命的源泉。它由一个氧原子和两个氢原子组成，在常温常压下为无色无味的透明液体。
它有很多的物理特性，比如说温度不同导致的密度和形态变化，重水、轻水、超临界水等不同的特殊状态，以及流动性、热传导性、溶解性和导电性等等，这种地球上最常见、可以说是成分最简单的物质之一，想要写完它的全部知识却需要一本最厚的书。
但具体到光刻机技术上，为什么周硕说水可以让0.8微米工艺，短时间内跨越到0.5微米技术？
这还要从光刻机工艺提升的两个方向说起。
所谓的制程工艺，究竟指的是什么呢？制程，实际上就是单晶硅晶圆上面的线宽。构成集成电路的基础，是单晶硅圆片上通过光刻腐蚀出来的线条。这些线条的粗细，也就决定了同一块芯片能够集成多少晶体管，能够达到什么样的性能。
而光刻机上决定线宽的因素，主要是光源和镜片这两种。光刻机生产芯片，其本质上和照相机并无太大区别。光线照射景物然后反射到照相机的镜头上，最后在胶片上形成影像。这个影像不就是比实物要小的多的多了吗？
同样，光刻机在单晶硅圆片上留下来的线条，可也不是一笔一笔刻上去的。而是通过对光学掩膜版进行曝光，然后让这些设计好的逻辑电路影像通过一组组镜头。最终得到比掩膜版要小得多的图像。这样对光敏感的光刻胶，就会被有选择的光照所去除。这些没有光刻胶覆盖的晶圆部分。就会在接下来的工艺中成为晶体管的结构基础。
不断的追求镜片加工极限，就是光刻机提高工艺水平的主流选择。这也是为什么全世界只有三家光刻机生产商。而最为著名的就是日本尼康和荷兰阿斯麦l）。尼康本身就是日本战前做潜艇潜望镜的厂家，后来则是相机业的霸主。而阿斯麦的镜
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